圍繞芯片制造要用到的關(guān)鍵設(shè)備——光刻機(jī)，一直不缺話題。

　　比如，一臺(tái)EUV光刻機(jī)賣(mài)多少錢(qián)？誰(shuí)買(mǎi)走了這些EUV光刻機(jī)？大陸廠商還能買(mǎi)到光刻機(jī)嗎？為何三星高管最近跑去荷蘭拜訪ASML總部？

　　上面這幾個(gè)問(wèn)題，其實(shí)可以在ASML和臺(tái)積電最新發(fā)布的三季報(bào)及業(yè)績(jī)說(shuō)明會(huì)中找到部分答案。兩家公司的地位無(wú)需多言，前者是全球頂級(jí)光刻機(jī)龍頭，后者是全球芯片制造龍頭。

　　一臺(tái)售價(jià)近12億元

　　關(guān)于售價(jià)，ASML總裁兼首席執(zhí)行官Peter Wennink10月14日介紹公司三季度業(yè)績(jī)情況時(shí)間接給出了答案。他表示，“我們第三季度的新增訂單達(dá)到29億歐元，其中5.95億歐元來(lái)自4臺(tái)EUV設(shè)備。”簡(jiǎn)單換算一下，一臺(tái)EUV光刻機(jī)的售價(jià)為1.48億歐元，折合人民幣高達(dá)11.74億元。

　　圖片來(lái)源：ASML官網(wǎng)

　　這是什么概念？2019年，A股還有1462家上市公司的營(yíng)業(yè)收入低于11.74億元。換句話說(shuō)，ASML每年賣(mài)一臺(tái)EUV光刻機(jī)，收入就可完勝A股的1/3公司。

　　售價(jià)這么高，ASML根本不愁買(mǎi)家，公司愁的是產(chǎn)能跟不上需求。

　　ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿(mǎn)足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機(jī)必不可缺。

　　據(jù)了解，EUV光刻機(jī)不需要多重曝光，一次就能曝出想要的精細(xì)圖形，沒(méi)有超純水和晶圓接觸，在產(chǎn)品生產(chǎn)周期、光學(xué)鄰近效應(yīng)矯正的復(fù)雜程度、工藝控制、良率等方面都有明顯優(yōu)勢(shì)。

　　ASML的EUV光刻機(jī)也在推陳出新。公司10月14日還公布了EUV路線圖上的新機(jī)型TWINSCANNXE:3600D的最終規(guī)格，曝光速度達(dá)到每小時(shí)曝光160片晶圓，提高了18%的生產(chǎn)效率，計(jì)劃于2021年的中期開(kāi)始發(fā)貨。

　　ASML三季度凈銷(xiāo)售額為40億歐元，預(yù)計(jì)四季度的銷(xiāo)售額將在36億歐元到38億歐元之間，毛利率約50%。“2021年，由于宏觀環(huán)境的不確定因素，包括疫情給經(jīng)濟(jì)帶來(lái)的影響，以及地緣政治的變化，我們預(yù)期業(yè)績(jī)?cè)鲩L(zhǎng)將是低雙位數(shù)。盡管如此，終端市場(chǎng)驅(qū)動(dòng)因素的變化（比如5G、人工智能和高性能計(jì)算），將推動(dòng)先進(jìn)制程的邏輯芯片和存儲(chǔ)芯片的市場(chǎng)需求，這都需要使用到先進(jìn)的光刻機(jī)。” Peter Wennink說(shuō)。

　　芯片大廠爭(zhēng)購(gòu)

　　ASML的EUV光刻機(jī)在2016年正式上市，主要供應(yīng)給英特爾、臺(tái)積電和三星這三家大客戶(hù)。其EUV光刻機(jī)出貨量一直在增加，從2016年的5臺(tái)上升到2019年的26臺(tái)。

　　目前，臺(tái)積電已將可量產(chǎn)的工藝推到5nm，大幅領(lǐng)先英特爾和三星；同時(shí)，按照計(jì)劃，公司3nm工藝將在明年試產(chǎn)，2022年下半年正式量產(chǎn)。重要的是，客戶(hù)對(duì)其7nm工藝和5nm工藝的需求十分強(qiáng)勁，這兩項(xiàng)工藝的收入占比在三季度已達(dá)43%。因此，臺(tái)積電對(duì)EUV光刻機(jī)的需求無(wú)疑也是最強(qiáng)勁的。

　　圖片來(lái)源：臺(tái)積電三季報(bào)

　　近期有媒體報(bào)道，由于先進(jìn)工藝推進(jìn)順利和訂單擴(kuò)大，臺(tái)積電將加大EUV光刻機(jī)的采購(gòu)力度，預(yù)計(jì)到2021年底采購(gòu)量至55臺(tái)左右。臺(tái)積電方面回復(fù)中國(guó)證券報(bào)記者采訪時(shí)表示，公司不評(píng)論市場(chǎng)傳聞。前述媒體援引半導(dǎo)體供應(yīng)鏈消息稱(chēng)，臺(tái)積電采購(gòu)的EUV光刻機(jī)已經(jīng)超過(guò)30臺(tái)，三星累計(jì)采購(gòu)的EUV光刻機(jī)不到20臺(tái)。

　　值得注意的是，ASML的財(cái)報(bào)顯示，三季度來(lái)自中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)貢獻(xiàn)的收入占比為47%，環(huán)比提高了26個(gè)百分點(diǎn)。業(yè)界認(rèn)為，這主要是由臺(tái)積電采購(gòu)EUV光刻機(jī)帶來(lái)。

　　與此同時(shí)，ASML來(lái)自韓國(guó)的收入占比出現(xiàn)下降，從二季度的38%下降到三季度的26%。有報(bào)道稱(chēng)，三星電子副董事長(zhǎng)李在镕近日飛赴ASML荷蘭總部會(huì)晤，雙方探討的核心是EUV光刻機(jī)的供應(yīng)和裝配（5nm），同時(shí)就面向AI等領(lǐng)域的下一代光刻機(jī)研發(fā)合作交換了意見(jiàn)。

　　當(dāng)然，ASML光刻機(jī)的買(mǎi)家還有大陸廠商，但購(gòu)買(mǎi)EUV光刻機(jī)存在阻力，而購(gòu)買(mǎi)DUV光刻機(jī)無(wú)礙。Peter Wennink表示，“根據(jù)當(dāng)前法規(guī)，ASML無(wú)需獲得美國(guó)出口許可證便可以繼續(xù)從荷蘭向中國(guó)客戶(hù)出貨DUV光刻系統(tǒng)；對(duì)于直接從美國(guó)發(fā)貨系統(tǒng)或零件到受法規(guī)影響的客戶(hù)，ASML需獲得許可證。”

　　EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)有什么不同？

　　根據(jù)曝光源的不同，光刻機(jī)分為EUV型（極深紫外線）、DUV型（深紫外線）。從制程范圍來(lái)看，DUV基本上只能做到25nm，而EUV能滿(mǎn)足10nm以下的晶圓制造需求。